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- 产品品牌：Picosun
- 产品型号：PICOSUN™ ALD R-200系列
- 产品名称：Picosun原子层沉积系统 R-200系列
名称：原子层沉积系统
品牌：PICOSUN
产地：芬兰
型号：PICOSUN™ ALD R-200系列
芬兰Picosun原子层沉积系统 R-200系列：PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。
兰Picosun原子层沉积系统 R-200系列 技术参数
衬底尺寸和类型
50 – 200 mm /单片
最大可沉积直径150 mm基片，竖直放置，10-25片/批次（根据工艺）
156 mm x 156 mm 太阳能硅片
3D 复杂表面衬底（使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳）
粉末与颗粒（配备扩散增强器）
多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
工艺温度
50 – 500 °C, 可选更高温度（真空腔体外壁不用任何冷却方式即可保持温度低于60 °C）
基片传送选件
气动升降（手动装载）
预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）
前驱体
液态、固态、气态、臭氧源
4根独立源管线，最多加载6个前驱体源
对蒸汽压低的前驱体(1mbar~10mbar)，用氮气等载气导入前驱体瓶内引出
重量
350kg
尺寸（ W x H x D)）
取决于选件
最小146 cm x 146 cm x 84 cm
最大189 cm x 206 cm x 111 cm
选件
PICOFLOW™扩散增强器，集成椭偏仪，QCM， RGA，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集
成（用于惰性气体下装载）。
验收标准
标准设备验收标准为 Al2O3 工艺
客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm（6”和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
材料 非均匀性(1σ) AI2O3 (batch) 0.13 % SiO2 (batch) 0.77 % TiO2 0.28 % HfO2 0.47 % ZnO 0.94 % Ta2O5 1.0 % TiN 1.10 % CeO2 1.52 % Pt 3.41 % 提示及声明： Picosun原子层沉积系统 R-200系列该产品信息以生产厂商提供为准，由于产品的批次问题，实际产品的包装、产地以及附件等可能会与本站有出入，千尊仪器网 www.qianzun17.com 只能确保为原厂正货！并且保证与当时市场上同样主流新品一致。若本网站没有及时更新，请大家谅解与纠正！ 反馈邮箱: kefu@qianzun17.com相关文章：
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